钼溅射靶材的性质

钼溅射靶材图片

为了增加溅射效率,确保薄膜沉积质量,因此,对钼溅射靶材的性能要求更高。

钼溅射靶材的纯度:高纯度是钼溅射靶材的基本要求。纯度较高的钼溅射靶材,钼溅射膜的沉积性能更好。一般来说,钼溅射靶材的纯度应至少达到99.95%。随着LCD的发展和电子行业,对钼溅射靶材的纯度要求为99.99% - 99.999%,甚至更高。

纯度:在溅射镀膜,钼溅射靶材纯度过低时,气体的缝隙将会被释放,钼溅射靶材的质量降低。因此,钼溅射靶材,为了获得沉积效果好的钼溅射靶材薄膜,其纯度的要求一般是99.95%以上。

钼溅射靶材性质:

1) 高熔点 
2) 极低的蒸气压(这对难熔和真空行业的应用尤其重要。)
3) 高温物理强度大(用于高温环境中的结构件) 
4) 抗蠕变(高温负载结构件。尺寸稳定性高。如:大型航空发动机涡轮叶片的锻造模具。) 
5) 高的弹性模量  
6) 极低的热胀系数(对于金属-陶瓷结构,金属-半导体结构,金属-石墨结构的应用非常
重要。如在LED领域,被视为大功率LED的未来的V-LED将会使用钼或者钼铜材料作为基底材料) 
7) 优良的导电率
8) 优良的导热性
9) 选择性的抗侵蚀能力

钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。

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