钼溅射靶材

钼溅射靶材图片

钼溅射靶材:

密度10.2克/立方厘米
熔点2610℃。沸点5560℃
纯度:99.9% ,99.99%
规格:圆形靶,板靶,旋转靶

钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。

钼溅射靶材的形状可以是圆形,矩形管。钼溅射靶材生产工艺一般包括烧结,锻造,工装和接地等。

钼溅射靶材用于平板显示器,微电子,数据存储,光学玻璃镀膜等行业。它是在真空镀膜,如装饰材料,五金工具,镜片镀膜等行业应用广泛。

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