方钼靶

简介

方钼靶是外观为方形，密度10.2克/立方厘米，熔点2610℃，沸点5560℃，纯度大于等于99.95% 的一种材料。

性能

方钼靶具有高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。  

用途

在电子行业中, 钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。